特許
J-GLOBAL ID：201403032009041960
露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-251498
公開番号（公開出願番号）：特開2014-099562
出願日： 2012年11月15日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：
【課題】スループットの低下を抑えながらデフォーカスの低減に有利な露光装置を提供する。【解決手段】予め取得したn枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれの高さの第1計測値に基づいて前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対してステージでフォーカス調整しながら露光すると共に、当該複数のショット領域のそれぞれの高さを計測部で計測して第2計測値を取得し、前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを前記計測部で計測して第3計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第3計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記第2計測値に基づいて前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整しながら露光する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の基板を連続して露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記基板のショット領域の高さを計測する計測部と、
前記複数の基板のそれぞれの露光を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板を露光する場合には、予め取得した前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれの高さの第1計測値に基づいて前記n枚目の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整しながら露光すると共に、当該露光において当該複数のショット領域のそれぞれの高さを前記計測部で計測して第2計測値を取得し、
前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のうち1つのショット領域の高さを前記計測部で計測して第3計測値を取得し、前記第1計測値に含まれる前記1つのショット領域に対応するショット領域の高さの計測値と前記第3計測値との差分、前記第1計測値、及び、前記第2計測値に基づいて前記n+1枚目以降の基板の複数のショット領域のそれぞれに対して前記ステージでフォーカス調整しながら露光することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 526Z
, G03F7/207 Z
, G03F7/207 H
2H097BA01
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F146DA14
, 5F146DB04
, 5F146DC10
