特許
J-GLOBAL ID：200903054897462158
マップを決定するための方法、デバイス製造方法及びリソグラフィック装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-119919
公開番号（公開出願番号）：特開2008-263207
出願日： 2008年05月01日
公開日（公表日）： 2008年10月30日
要約：
【課題】マップを決定するための方法、デバイス製造方法及びリソグラフィック装置を提供する。【解決手段】1つの基板群に属する基板の第2の部分のマップを決定するステップが含まれている。この方法には、平均プロファイル・マップ若しくは平均高さマップを生成するべく、上記基板群に属する少なくとも1つの基板の第1の部分を測定するステップと、平均プロファイル・マップ若しくは平均高さマップに基づいて上記基板群に属する基板の第2の部分のマップを計算するステップが含まれている。計算されたマップは、後に上記基板群からの基板の高さ若しくは傾斜を決定する際に使用するべく保存される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
表面のマップを決定する方法であって、
1つの基板群に属する基板の第1の部分を測定するステップと、
前記測定ステップの結果に基づいて、前記基板群に属する少なくとも1つの基板の第2の部分のマップを計算するステップであって、前記第1の部分が少なくとも部分的に前記第2の部分と重なるステップとを含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 526B
, G03F9/02
2H097GB01
, 2H097GB02
, 2H097GB03
, 2H097KA38
, 2H097LA10
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC13
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DB08
, 5F046DB10
, 5F046DC07
