特許
J-GLOBAL ID:201403032245784761

SiC単結晶の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  河野上 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-190547
公開番号(公開出願番号):特開2014-047096
出願日: 2012年08月30日
公開日(公表日): 2014年03月17日
要約:
【課題】溶液法において、従来よりも成長速度を大幅に向上することができるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】坩堝内に入れられ、内部から液面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液に、種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、 Si-C溶液の液面から10mm下までの範囲の温度勾配が42°C/cmよりも大きい、 SiC単結晶の製造方法。【選択図】図9
請求項(抜粋):
坩堝内に入れられ、内部から液面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液に、種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、 前記Si-C溶液の液面から10mm下までの範囲の温度勾配が42°C/cmよりも大きい、 SiC単結晶の製造方法。
IPC (2件):
C30B 29/36 ,  C30B 19/10
FI (2件):
C30B29/36 A ,  C30B19/10
Fターム (12件):
4G077AA02 ,  4G077BE08 ,  4G077CG02 ,  4G077EA01 ,  4G077EG01 ,  4G077EG05 ,  4G077EH07 ,  4G077HA06 ,  4G077HA12 ,  4G077QA04 ,  4G077QA38 ,  4G077QA62
引用特許:
審査官引用 (4件)
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