特許
J-GLOBAL ID:201403032245784761
SiC単結晶の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-190547
公開番号(公開出願番号):特開2014-047096
出願日: 2012年08月30日
公開日(公表日): 2014年03月17日
要約:
【課題】溶液法において、従来よりも成長速度を大幅に向上することができるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】坩堝内に入れられ、内部から液面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液に、種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、 Si-C溶液の液面から10mm下までの範囲の温度勾配が42°C/cmよりも大きい、 SiC単結晶の製造方法。【選択図】図9
請求項(抜粋):
坩堝内に入れられ、内部から液面に向けて温度低下する温度勾配を有するSi-C溶液に、種結晶基板を接触させてSiC単結晶を結晶成長させる、SiC単結晶の製造方法であって、
前記Si-C溶液の液面から10mm下までの範囲の温度勾配が42°C/cmよりも大きい、
SiC単結晶の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CG02
, 4G077EA01
, 4G077EG01
, 4G077EG05
, 4G077EH07
, 4G077HA06
, 4G077HA12
, 4G077QA04
, 4G077QA38
, 4G077QA62
引用特許: