特許
J-GLOBAL ID：201403041337154151
塗布方法および塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-037579
公開番号（公開出願番号）：特開2014-161836
出願日： 2013年02月27日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：
【課題】膜厚精度が必要な領域の全面において精度良くかつ短時間で塗布液を塗布することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。【解決手段】制御手段が、吐出口13が精度要求除外領域R1の上方に位置する時間内に、吐出口13からの塗布液の吐出速度および口金11と基板Wとの相対移動速度を、口金11と基板Wとの間で塗布液によるビードを維持することが可能な第1吐出速度および第1移動速度まで加速させる、ビード形成工程と、ビード形成工程の後、制御手段が、ビード形成工程における吐出速度および相対移動速度の加速度より小さく、かつ、吐出速度の加速に起因して吐出口13の長手方向にわたって生じる塗布膜の膜厚の誤差が塗布膜に要求される膜厚精度の範囲内となる加速度で、基板Wへの単位面積あたりの塗布液の塗布量を一定に保ちながら、吐出速度を第1吐出速度よりも高速な第2吐出速度まで加速させ、また、相対移動速度を第1移動速度よりも高速な第2移動速度まで加速させる、加速工程と、を有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
一方向に長いスリット状の吐出口を有し、当該吐出口から塗布液を吐出する口金と、
前記口金と基板とを前記吐出口の短手方向に相対移動させる相対移動手段と、
前記吐出口から吐出する塗布液の吐出速度と前記相対移動手段による相対移動速度とを制御する制御手段と、
を備えた塗布装置によって、外周部に塗布膜の膜厚精度を要求しない精度要求除外領域を有し、また、当該精度要求除外領域より内側に膜厚精度を要求する精度要求領域を有する基板に対して、前記相対移動手段により前記口金を相対移動させながら前記吐出口から塗布液を吐出して塗布膜を形成する塗布方法であって、
前記吐出口が前記精度要求除外領域の上方に位置する状態において前記制御手段が前記吐出口からの塗布液の吐出および前記相対移動を開始させる、開始工程と、
前記制御手段が、前記吐出口が前記精度要求除外領域の上方に位置する時間内に、前記吐出口からの塗布液の吐出速度および前記相対移動速度を、前記口金と基板との間で塗布液によるビードを維持することが可能な第1吐出速度および第1移動速度まで加速させる、ビード形成工程と、
前記ビード形成工程の後、前記制御手段が、前記ビード形成工程における前記吐出速度および前記相対移動速度の加速度より小さく、かつ、前記吐出速度の加速に起因して前記吐出口の長手方向にわたって生じる前記塗布膜の膜厚の誤差が前記塗布膜に要求される膜厚精度の範囲内となる加速度で、基板への単位面積あたりの塗布液の塗布量を一定に保ちながら、前記吐出速度を前記第1吐出速度よりも高速な第2吐出速度まで加速させ、また、前記相対移動速度を前記第1移動速度よりも高速な第2移動速度まで加速させる、加速工程と、
を有することを特徴とする、塗布方法。
IPC (4件)：
B05D 1/26
, B05C 5/02
, B05C 11/10
, B05D 3/00
B05D1/26 Z
, B05C5/02
, B05C11/10
, B05D3/00 D
4D075AC02
, 4D075AC88
, 4D075AC93
, 4D075AC94
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075EA05
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA34
, 4F041CA02
, 4F041CA16
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042BA04
, 4F042BA08
, 4F042BA25
