特許
J-GLOBAL ID：201403043847397299

転写装置、被成形体および転写方法

発明者：
杉浦 裕喜

杉浦 裕喜 について

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松月 功

松月 功 について

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藤原 茂

藤原 茂 について

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北原 秀利

北原 秀利 について

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室伏 勇

室伏 勇 について


出願人/特許権者：
東芝機械株式会社

東芝機械株式会社 について


代理人 (5件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-186300
公開番号（公開出願番号）：特開2014-043038
出願日： 2012年08月27日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：
【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、転写のときに被成形体での微細な気泡の発生を無くすとともに、効率よく転写を行うことができるものを提供する。【解決手段】モールドMと被成形体Wとを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ部3と、真空貼り合わせ部3で貼り合わされた状態で搬送されてきた被成形物WにモールドMの微細な転写パターンM1を転写する転写部5とを有する転写装置である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、 前記モールドと前記被成形体とを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ部と、 前記真空貼り合わせ部で貼り合わされた状態で搬送されてきた前記被成形物に前記モールドの微細な転写パターンを転写する転写部と、 を有することを特徴とする転写装置。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D
Fターム (19件)：
4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AM26 ,  4F209AM32 ,  4F209AR02 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PA03 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN13 ,  4F209PN20 ,  4F209PQ16 ,  4F209PQ20 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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