特許
J-GLOBAL ID：201403044279542145

マスクデータ作成方法、それを実行するプログラムおよび情報処理装置

発明者：
荒井 禎

荒井 禎 について

, 
行田 裕一

行田 裕一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-195820
公開番号（公開出願番号）：特開2014-052474
出願日： 2012年09月06日
公開日（公表日）： 2014年03月20日
要約：
【課題】マスクパターンの分割数を少なくしつつ、分割されたパターン間距離の最小値を最大化するリソグラフィー・フレンドリーなマスクデータ作成方法を提供する。【解決手段】このマスクデータ作成方法は、1つのマスクを用いて基板に露光した後、他のマスクを用いて基板に露光する多数回露光に用いられる複数のマスクのデータをコンピューターを用いて作成するものであり、複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得するステップ(S100)と、パターンの配置制約条件を決定するステップ(S101)と、配置制約条件を定式化するステップ(S102)と、パターンの間の距離を解析するステップ(S103)と、距離の制約条件を定式化するステップ(S104)と、パターンの分割数を表す第1変数と、すべてのパターンに関する距離を表す第2変数とをコスト関数に適用し、パターンの分割を行うステップ(S105)とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1つのマスクを用いて基板に露光した後、他のマスクを用いて前記基板に露光する多数回露光に用いられる複数のマスクのデータをコンピューターを用いて作成するマスクデータ作成方法であって、 複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得するステップと、 前記パターンの配置制約条件を決定するステップと、 前記配置制約条件を定式化するステップと、 前記パターンの間の距離を解析するステップと、 前記距離の制約条件を定式化するステップと、 前記パターンの分割数を表す第1変数と、すべての前記パターンに関する前記距離を表す第2変数とをコスト関数に適用し、前記パターンの分割を行うステップと、 を有することを特徴とするマスクデータ作成方法。
IPC (2件)：
G03F 1/70 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F1/70 ,  H01L21/30 502P
Fターム (3件)：
2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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