特許
J-GLOBAL ID:201403044839615704

結晶シリコンインゴット及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠 ,  本田 淳
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-079770
公開番号(公開出願番号):特開2013-087051
特許番号:特許第5630665号
出願日: 2012年03月30日
公開日(公表日): 2013年05月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 結晶シリコンインゴットを製造する方法において、 結晶シリコンシード層を型に提供する工程であって、結晶シリコンシード層は、複数の第1の単結晶シリコンシードと、複数の第2の単結晶シリコンシードとを含み、各第1の単結晶シリコンシードは(100)と異なる第1の結晶方向を有し、第2の単結晶シリコンシードの各々は第1の結晶方向と異なる第2の結晶方向を有し、第1の結晶方向と第2の結晶方向との間の角度は35度以上であり、各第1の単結晶シリコンシードは1つ以上の第2の単結晶シリコンシードに隣接し、他の第1の単結晶シリコンシードから分離されている、前記工程と、 シリコン溶融物を前記型に充填する工程であって、シリコン溶融物は結晶シリコンシード層に接触する、前記工程と、 方向性凝固法を用いて前記型を冷却する工程であって、前記シリコン溶融物は凝固し、前記結晶シリコンシード層を含む結晶シリコンインゴットが形成される、前記工程と、を備え、 複数の第2の単結晶シリコンシードは、複数の第1の単結晶シリコンシードの間に交互に配置され、前記結晶シリコンシード層に対する前記第1の単結晶シリコンシードの体積比は80%より大きく、2つの第1の単結晶シリコンシードの間に配置された1つの第2の単結晶シリコンシードの幅は、3〜5センチメートルの間の値である、方法。
IPC (1件):
C30B 29/06 ( 200 6.01)
FI (1件):
C30B 29/06 501 Z
引用特許:
出願人引用 (4件)
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引用文献:
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