特許
J-GLOBAL ID：201403047089616346

メトロロジ方法及び装置、リソグラフィシステム並びにデバイス製造方法

発明者：
スミルデ,ヘンドリク,ヤン,ヒデュー

スミルデ,ヘンドリク,ヤン,ヒデュー について

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ブリーカー,アーノ,ヤン

ブリーカー,アーノ,ヤン について

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コーネ,ウィレム,マリエ,ジュリア,マルセル

コーネ,ウィレム,マリエ,ジュリア,マルセル について

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クービス,ミヒャエル

クービス,ミヒャエル について

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ワーナール,パトリック

ワーナール,パトリック について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-538197
公開番号（公開出願番号）：特表2014-502420
出願日： 2011年11月10日
公開日（公表日）： 2014年01月30日
要約：
【課題】スループットと精度とが改善できる、ターゲット格子内の非対称性及び/又はオーバレイを計測する暗視野メトロロジのための方法及び装置を提供する。【解決手段】リソグラフィプロセスによって基板上に形成されたターゲット構造を測定する方法が開示される。ターゲット内の格子構造は照明スポット及び測定光学システムの視野よりも小さい。光学システムは瞳面結像センサへ至る第1の分岐路と基板平面結像センサへ至る第2の分岐路とを有する。空間光変調器が光学システムの第2の分岐路の中間瞳面内に配置される。SLMは、第1及び第2の照明又は結像モードの非対称性を補正するのに使用される減衰のプログラマブルパターンを付与する。特定のターゲット設計及び機械学習プロセスを用いて、減衰パターンもプログラミングしてフィルタ関数として動作させることにより、合焦等の対象とする特定パラメータへの感度を増大させる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
リソグラフィプロセスによって基板上に形成された周期的構造内の非対称性を測定する方法であって、 前記リソグラフィプロセスを用いて前記基板上に周期的構造を形成するステップと、 前記構造を第1の放射ビームで照明しながら前記周期的構造の第1の画像を形成し検出するステップを含む第1の測定ステップであって、前記第1の画像が、回折放射の第1の選択された部分を用いて形成される、ステップと、 前記構造を第2の放射ビームで照明しながら前記周期的構造の第2の画像を形成し検出するステップを含む第2の測定ステップであって、前記第2の画像が、前記周期的構造の回折スペクトル内で前記第1の部分と対称的に対向する前記回折放射の第2の選択された部分を用いて形成される、ステップと、 前記検出された第1及び第2の画像の両方から導出された強度値の差を用いて前記周期的構造の特性を決定するステップと、を含み、 光学システムが、前記第1及び第2の画像の形成の前に前記回折放射の前記第1及び第2の選択された部分に変動する非2値光学減衰を適用するように制御される空間光変調器を備える、方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 502V ,  H01L21/30 516Z ,  G03F7/20 521
Fターム (6件)：
5F146EA07 ,  5F146EB01 ,  5F146EC05 ,  5F146FB14 ,  5F146FB18 ,  5F146FC04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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