特許
J-GLOBAL ID：201403047760484875
プラズマ処理装置、及び温度制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-148500
公開番号（公開出願番号）：特開2014-011382
出願日： 2012年07月02日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：
【課題】簡易な構成で迅速に温度制御を行う。【解決手段】プラズマ処理装置は、ウエハWが設置される下部電極12を備える。下部電極12の内部には、ウエハWが設置される領域に対応する領域に、渦巻き状に第2の冷媒管70bが形成される。また、下部電極12の内部の、第2の冷媒管70bの下部領域には、渦巻き状に第1の冷媒管70aが形成される。チラーユニット71に接続された配管72は第1の配管72a及び第2の配管72bに分岐されて、第1の配管72aは第1の冷媒管70aに連結され、第2の配管72bは第2の冷媒管70bに連結される。第1の配管72aには、冷媒を一方向にのみ通流させる逆止弁90が設けられる。また、配管72には、冷媒の流れ方向を反転させる反転ユニット92が設けられる。【選択図】図4A
請求項（抜粋）：
プラズマ処理空間を画成する処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、被処理基板が設置される載置台と、
プラズマ反応に用いられる処理ガスを前記プラズマ処理空間へ導入するガス供給機構と、
前記プラズマ処理空間内に導入された処理ガスをプラズマ化するための電磁エネルギーを供給するプラズマ生成機構と、
前記載置台の内部に形成された複数の冷媒流路と、
前記複数の冷媒流路を通流して循環する冷媒の温度を制御する温度調整部と、
前記複数の冷媒流路のうちの一部の冷媒流路に設けられた逆止弁と、
前記複数の冷媒流路を通流して循環する冷媒の流れ方向を反転させる反転機構と、
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
H01L21/302 101G
, H01L21/205
5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BB22
, 5F004BB23
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F045EJ03
, 5F045EJ09
, 5F045EK05
, 5F045EM05
