特許
J-GLOBAL ID：201403052104198690

レジスト除去液、これを用いたレジスト除去方法およびフォトマスクの製造方法

発明者：
水谷 篤史

水谷 篤史 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-086743
公開番号（公開出願番号）：特開2014-212171
出願日： 2013年04月17日
公開日（公表日）： 2014年11月13日
要約：
【課題】EUVリソグラフィー用のフォトマスクのパターニングに用いられるレジストの除去性に優れるレジスト除去液、これを用いた除去方法およびフォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】EUVリソグラフィー用のフォトマスクのパターニングにおいて、フォトマスク基板上に付与されたレジストにレジスト除去液を接触させてレジストを除去する方法であって、レジスト除去液として、アルカリ化合物と特定含窒素化合物と水とを含有し、水分量が50質量%超であるものを用いるレジスト除去方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
EUVリソグラフィー用のフォトマスクの製造の際に、フォトマスク基板上に付与されたレジストにレジスト除去液を接触させて当該レジストを除去する方法であって、前記レジスト除去液として、アルカリ化合物と特定含窒素化合物と水とを含有し、水の含有率が50質量%超であるものを用いるレジスト除去方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304
FI (3件)：
H01L21/30 572B ,  G03F7/42 ,  H01L21/304 647A
Fターム (24件)：
2H096AA24 ,  2H096LA03 ,  2H196AA24 ,  2H196LA03 ,  5F146MA02 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AC01 ,  5F157BC02 ,  5F157BC03 ,  5F157BC12 ,  5F157BC13 ,  5F157BC54 ,  5F157BE12 ,  5F157BF37 ,  5F157BF38 ,  5F157BF39 ,  5F157BF43 ,  5F157BF44 ,  5F157BF48 ,  5F157BF49 ,  5F157BF59 ,  5F157BF72 ,  5F157BF73
引用特許：
審査官引用 (17件)
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