特許
J-GLOBAL ID：201403052805897363
パターン照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大菅 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-078120
公開番号（公開出願番号）：特開2014-202867
出願日： 2013年04月04日
公開日（公表日）： 2014年10月27日
要約：
【課題】SLMから生じる0次光を小さな遮断領域で適切に遮断して所望の照射パターンを標本面に形成するパターン照射装置を提供することを課題とする。【解決手段】パターン照射装置100は、光源ユニット10と、光源ユニット10から出射された光を標本面SPに照射する対物レンズ50と、対物レンズ50の瞳位置と共役な位置に配置されて光源ユニット10から出射された光の位相を変調する位相変調型のSLM20と、SLM20と対物レンズ50の間の光路上に配置されてSLM20から生じる0次光を遮断する遮断手段である0次光カットフィルタ41と、SLM20から生じる0次光の集光位置と0次光カットフィルタ41の遮断領域41bの位置を一致させる制御装置70を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
光源ユニットと、
前記光源ユニットから出射された光を標本面に照射する対物レンズと、
前記対物レンズの瞳位置と共役な位置に配置されて、前記光源ユニットから出射された光の位相を変調する位相変調型の空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記対物レンズの間の光路上に配置されて、前記空間光変調器から生じる0次光を遮断する遮断手段と、
前記空間光変調器から生じる0次光の集光位置と前記遮断手段の位置を一致させる制御装置と、を備える
ことを特徴とするパターン照射装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H052AC04
, 2H052AC14
, 2H052AC18
, 2H052AC27
, 2H052AC34
