特許
J-GLOBAL ID:201403060562091643

積層体の製造プロセスおよびそのプロセスで得られる積層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 林 一好
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-517520
公開番号(公開出願番号):特表2014-525823
出願日: 2012年07月06日
公開日(公表日): 2014年10月02日
要約:
本発明は、以下のプロセス段階を含む、積層体S2(1)の製造プロセスに関する: i)基板(3)および基板(3)に塗布されかつ導電性ポリマーP1を含む導電層(4)を含む積層体S1(2)の提供; ii)導電層の少なくとも1つの被覆領域Dd(6)および少なくとも1つの非被覆領域Du(7)を得るための、導電層(4)の部分の、ポリマーP2を含む、被覆相由来の被覆層D(5)での部分的な被覆; iii)少なくとも1つの被覆領域Dd(6)における導電層(4)の電気伝導率と比較して、少なくとも1つの非被覆領域Du(7)のうちの少なくとも一部における導電層(4)の電気伝導率の削減; iv)アルカリ水溶液処理による被覆層D(5)の少なくとも部分的な除去。本発明は、さらに、電子部品、特にタッチパネル、タッチスクリーンまたは積層体Sを含む、帯電防止のコーティングおよび電子部品、特にタッチパネルまたはタッチスクリーンの製造用の積層体S2、積層体S2の使用方法に関する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
以下のプロセス段階を含む、積層体S2(1)の製造プロセス: i)基板(3)および基板(3)に塗布されかつ導電性ポリマーP1を含む導電層(4)を含む積層体S1(2)の提供; ii)導電層の少なくとも1つの被覆領域Dd(6)および少なくとも1つの非被覆領域Du(7)を得るための、導電層(4)の部分の、ポリマーP2を含む、被覆相由来の被覆層D(5)での部分的な被覆; iii)少なくとも1つの被覆領域Dd(6)における導電層(4)の電気伝導率と比較して、少なくとも1つの非被覆領域Du(7)のうちの少なくとも一部における導電層(4)の電気伝導率の削減; iv)アルカリ水溶液処理による被覆層D(5)の少なくとも部分的な除去。
IPC (5件):
B05D 5/12 ,  G06F 3/041 ,  B32B 7/02 ,  B32B 27/00 ,  B05D 3/10
FI (6件):
B05D5/12 B ,  G06F3/041 495 ,  B32B7/02 104 ,  B32B27/00 A ,  B05D3/10 H ,  G06F3/041 660
Fターム (33件):
4D075AB01 ,  4D075AC41 ,  4D075AD01 ,  4D075AE04 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB68Z ,  4D075BB77Z ,  4D075CA22 ,  4D075CB38 ,  4D075DA06 ,  4D075DB36 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DB55 ,  4D075DC24 ,  4D075EB14 ,  4D075EB22 ,  4D075EC30 ,  4F100AK01B ,  4F100AK12B ,  4F100AK25B ,  4F100AK31B ,  4F100AK41 ,  4F100AL01B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA41 ,  4F100EH46B ,  4F100GB41 ,  4F100HB00B ,  4F100HB31B ,  4F100JG01B ,  4F100YY00B
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • Orgacon
審査官引用 (2件)
  • Orgacon
  • Orgacon

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