特許
J-GLOBAL ID:201403061593444087

導電性構造体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 龍華国際特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-556553
公開番号(公開出願番号):特表2014-512455
出願日: 2012年03月02日
公開日(公表日): 2014年05月22日
要約:
本発明の一実施形態は、暗色化パターン層を含む導電性構造体であって、前記暗色化パターン層は、AlOxNyを含む導電性構造体およびその製造方法に関するものである。本発明の一実施形態にかかる導電性構造体は、導電性パターン層の導電度に影響を与えないながらも、導電性パターン層による反射を防止することができ、吸光度を向上させることにより、導電性パターン層の隠蔽性を向上させることができる。したがって、本発明の一実施形態の導電性構造体を用いて視認性が改善されたディスプレイパネルを開発することができる。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基材と、 導電性パターン層と、 下記数式1を満たすAlOxNy(x>0、y>0)の暗色化パターン層とを含む導電性構造体。
IPC (3件):
C23C 14/06 ,  C23C 14/14 ,  G09F 9/00
FI (5件):
C23C14/06 K ,  C23C14/06 N ,  C23C14/14 D ,  G09F9/00 313 ,  G09F9/00 366A
Fターム (17件):
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA04 ,  4K029BA44 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BC03 ,  4K029BC08 ,  4K029BD02 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029EA01 ,  5G435AA16 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435EE49
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (11件)
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