特許
J-GLOBAL ID：201003098343845967
反射防止膜及びその製造方法、並びに表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
家入 健
, 岩瀬 康弘
, 須藤 雄一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-024700
公開番号（公開出願番号）：特開2010-079240
出願日： 2009年02月05日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】可視光領域における低反射特性と電気的な低抵抗特性とを兼ね備え、低コスト化と環境負荷低減が可能な反射防止膜を提供することを提供すること。【解決手段】本発明の一態様に係る反射防止膜1は、透明性基板15上に形成された反射防止膜1であって、膜厚25nmにおいて波長550nmの透過率が10%未満であり、主成分がAlであるAl系膜2bと、Al系膜2bの上層、又は/及び下層に形成され、膜厚25nmにおいて波長550nmの透過率が10%以上であり、かつ、主成分がAlであり、添加物として少なくともN元素を含むAl系N含有膜2aとを備える。そして、反射防止膜1の比抵抗値が1.0×10-2Ω・cm以下であり、Al系N含有膜2a面の可視光領域における反射率を50%以下とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透明性基板上に形成された反射防止膜であって、
膜厚25nmにおいて波長550nmの透過率が10%未満であり、主成分がAlであるAl系膜と、
前記Al系膜の上層、又は/及び下層に形成され、膜厚25nmにおいて波長550nmの透過率が10%以上であり、かつ、主成分がAlであり、添加物として少なくともN元素を含むAl系N含有膜と、を備え、
比抵抗値が1.0×10-2Ω・cm以下であり、
前記Al系N含有膜面の可視光領域における反射率が50%以下である反射防止膜。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, G02F 1/133
, C23C 14/06
G02B1/10 A
, G02F1/1335
, C23C14/06 N
2H191FA06Y
, 2H191FA15Y
, 2H191FA40Y
, 2H191FB14
, 2H191FC02
, 2H191FD04
, 2H191FD22
, 2H191FD26
, 2H191GA05
, 2H191LA03
, 2H191LA22
, 2K009AA02
, 2K009CC02
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA29
, 4K029BA03
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029BC03
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029EA01
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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