特許
J-GLOBAL ID：201403070220067398
基板処理装置及び薬液供給方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-267523
公開番号（公開出願番号）：特開2014-112690
出願日： 2013年12月25日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
要約：
【課題】スループットを低下させることなく、ろ過効果を高めること。【解決手段】開示される薬液供給システムは、基板上に薬液を供給する薬液供給部と、薬液供給部に薬液供給源から薬液を供給する薬液供給システムを有する基板処理装置であって、薬液供給システムは、薬液供給源に入口配管を介して接続される第1の容器と、薬液供給部に出口配管を介して接続される第2の容器と、第1の容器と第2の容器とを繋ぐ第1の配管に設けられ、第1の容器に貯留される薬液を第2の容器へ流す第1のポンプと、第1の配管に設けられ、第1の容器から第2の容器へ向かって第1の配管内を流れる薬液をろ過する第1のフィルタと、第1の容器と第2の容器とを繋ぐ第2の配管とを備える。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板上に薬液を供給する薬液供給部と、前記薬液供給部に薬液供給源から薬液を供給する薬液供給システムを有する基板処理装置であって、
前記薬液供給システムは、
前記薬液供給源に入口配管を介して接続される第1の容器と、
前記薬液供給部に出口配管を介して接続される第2の容器と、
前記第1の容器と前記第2の容器とを繋ぐ第1の配管に設けられ、前記第1の容器に貯留される薬液を前記第2の容器へ流す第1のポンプと、
前記第1の配管に設けられ、前記第1の容器から前記第2の容器へ向かって前記第1の配管内を流れる薬液をろ過する第1のフィルタと、
前記第1の容器と前記第2の容器とを繋ぐ第2の配管と、
を備える基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/10
, B05D 3/00
H01L21/30 564C
, B05C11/10
, B05D3/00 B
4D075AC64
, 4D075AC84
, 4D075AC97
, 4D075DA08
, 4D075DB14
, 4D075DC22
, 4D075EA45
, 4F042AA07
, 4F042AB00
, 4F042CA01
, 4F042CB02
, 4F042CB13
, 4F042CB14
, 4F042CB18
, 4F042CB20
, 4F042CB25
, 5F146JA01
, 5F146JA03
, 5F146JA16
