特許
J-GLOBAL ID：201403070511567037
圧電体薄膜素子及びインクジェット記録ヘッド、並びにインクジェット式画像形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-228709
公開番号（公開出願番号）：特開2014-199910
出願日： 2013年11月01日
公開日（公表日）： 2014年10月23日
要約：
【課題】誘電体薄膜の特性劣化を招くような下地層への成分拡散を抑制することにより、圧電体膜の特性を向上させることのできる圧電体薄膜素子を提供する。【解決手段】基板11と、基板11上に設けられた成膜振動板12と、成膜振動板12上に設けられ白金またはイリジウムの金属膜を含む下部電極13と、下部電極13上に設けられ多結晶体からなる圧電体膜14と、圧電体膜14上に設けられた上部電極15とを備えた圧電体薄膜素子であって、下部電極13は、成膜振動板12上の酸化チタン膜17の上部に設けられ、酸化チタン膜17の上に形成された白金またはイリジウムの金属膜18と、白金またはイリジウムの金属膜18の上に形成された導電性酸化物19とからなり、白金またはイリジウムの金属膜18は、150nm以上で250nm以下の厚みを有しかつ結晶の平均粒径が250nm以上の空穴等のない緻密な膜で形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に設けられた振動板と、該振動板上に設けられ少なくとも白金またはイリジウムの金属膜を含む下部電極と、該下部電極上に設けられ多結晶体からなる圧電体膜と、該圧電体膜上に設けられた上部電極とを備えた圧電体薄膜素子であって、
前記下部電極は、前記振動板上に形成された酸化チタン膜の上部に設けられ、
前記酸化チタン膜の上に形成された白金またはイリジウムの金属膜と、
前記白金またはイリジウムの金属膜の上に形成された導電性酸化物とからなり、
前記白金またはイリジウムの金属膜は、150nm以上で250nm以下の厚みを有し、かつ結晶の平均粒径が250nm以上の空穴等のない緻密な膜で形成されていることを特徴とする圧電体薄膜素子。
IPC (10件)：
H01L 41/047
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, H01L 41/09
, H01L 41/319
, H01L 41/187
, H01L 41/318
, H01L 41/29
, H01L 41/43
, H01L 41/257
H01L41/047
, B41J3/04 103A
, H01L41/09
, H01L41/319
, H01L41/187
, H01L41/318
, H01L41/29
, H01L41/43
, H01L41/257
2C057AF99
, 2C057AG12
, 2C057AG44
