特許
J-GLOBAL ID：201403071961545196

極端紫外光光源装置

発明者：
寺本 雄介

寺本 雄介 について

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新美 剛太

新美 剛太 について

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平岡 尊宏

平岡 尊宏 について

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ゴールドホールン ピーター

ゴールドホールン ピーター について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-095235
公開番号（公開出願番号）：特開2014-216286
出願日： 2013年04月30日
公開日（公表日）： 2014年11月17日
要約：
【課題】レーザ生成プラズマによる極端紫外光を安定に放射させるため、液体または固体の原料を安定に供給し、また、デブリのプラズマ発生空間への飛散を少なくすること。【解決手段】円盤状の回転体1と、当該回転体1を回転させるモータ3と、当該回転体1をギャップを介して包囲するカバー状構造体2と、カバー状構造体2の内部に設けられ液体状の高温プラズマ原料23を貯留する第1の貯留槽4を備えた原料供給機構であって、回転体1の一部が上記高温プラズマ原料23に浸漬している。回転体1が回転すると回転体1の表面の一部に液体状の高温プラズマ原料23が塗布される。カバー状構造体2の一部には、回転体1の高温プラズマ原料23が塗布された面を露出する開口部15が設けられ、エネルギービーム供給装置6から開口部15を介してエネルギービーム6’が高温プラズマ原料に照射されEUV放射が発生する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
円盤状の回転体と、当該回転体の平面側に垂直な回転中心軸を中心として上記回転体を回転させる回転手段と、当該回転体を、ギャップを介して包囲するカバー状の構造体と、上記カバー状構造体の内部に設けられ液体状の高温プラズマ原料を貯留する第1の貯留槽と、上記回転体の一部が第1の貯留槽に貯留される高温プラズマ原料に浸漬していて、上記回転体の回転運動により上記回転体の表面の少なくとも一部に液体状の高温プラズマ原料を塗布する原料供給機構と、上記高温プラズマ原料にエネルギービームを照射するエネルギービーム供給装置を備えた極端紫外光光源装置であって、 上記原料供給機構の上記カバー状構造体の一部には開口部が設けられ、該開口部を介して上記エネルギービームが上記回転体の高温プラズマ原料が塗布された表面に照射されるとともに、該エネルギービームの照射により発生した極端紫外光が該開口部から放出され、 上記カバー状構造体は、上記回転手段により回転する回転体に作用する遠心力方向と対向し上記回転体を覆うように設けられる飛散防止部材を有する ことを特徴とする極端紫外光光源装置。
IPC (2件)：
H05G 2/00 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S
Fターム (14件)：
4C092AA06 ,  4C092AA13 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB10 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  4C092BD20 ,  5F146GA21 ,  5F146GA24 ,  5F146GA28 ,  5F146GC12 ,  5F146GC14
引用特許：
審査官引用 (5件)
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