特許
J-GLOBAL ID:201403077610223220
DNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体、その製造方法及び用途
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
須藤 政彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-260391
公開番号(公開出願番号):特開2014-103924
出願日: 2012年11月28日
公開日(公表日): 2014年06月09日
要約:
【課題】DNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体、その製造方法及び用途を提供する。【解決手段】シリカ系ナノ空孔材料のシリカ細孔にDNA合成能を有するDNA合成酵素を備える酵素内包複合体であって、酵素反応前後において酵素が前記シリカ系ナノ空孔材料のシリカ細孔に安定に固定されており、上記酵素内包複合体が反応基質である核酸(DNA)と相互作用を示し、酵素活性を安定に発現できる複合化状態にある、DNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体、前記のDNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体からなり、DNA合成反応における繰り返し使用においても、酵素をシリカ系ナノ空孔材料のシリカ細孔に安定に吸着、固定、保持でき、かつ、DNA合成能を安定に発現できるDNA合成酵素内包高耐久性部材、及び前記のDNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体による、極微量サンプルからのDNAの増幅方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリカ系ナノ空孔材料のシリカ細孔にDNA合成能を有するDNA合成酵素を備える酵素内包複合体であって、酵素反応前後においてDNA合成酵素が前記シリカ系ナノ空孔材料のシリカ細孔に吸着、固定されていて、上記酵素内包複合体が反応基質である核酸(DNA)と相互作用を示し、酵素活性を発現できる複合化状態にある構造を有することを特徴とするDNA合成酵素-シリカ系ナノ空孔材料複合体。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (14件):
4B024AA11
, 4B024AA20
, 4B024CA04
, 4B024HA14
, 4B033NA01
, 4B033NA22
, 4B033NB24
, 4B033NB62
, 4B033NC01
, 4B033ND02
, 4B033ND08
, 4B033ND12
, 4B033ND20
, 4B033NH09
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る