特許
J-GLOBAL ID：201403080731445647

パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いる電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス

発明者：
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-134190
公開番号（公開出願番号）：特開2013-257468
出願日： 2012年06月13日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
要約：
【課題】孔径45nm以下のホールパターンなどの微細パターンの有機系現像液による形成において、局所的なパターン寸法の均一性(Local CDU、nm)及び露光ラチチュード(EL)に優れ、スカムの発生の低減に優れるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びにこれらを用いる電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】(ア)下記(A)〜(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、 (A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)pKaが-2以上の酸の共役塩基構造を分子内に有し、実質的に活性光線又は放射線によって分解しない塩(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)下記(A)〜(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、 (A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)pKaが-2以上の酸の共役塩基構造を分子内に有し、実質的に活性光線又は放射線によって分解しない塩 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程 を有するパターン形成方法。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (7件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (95件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H125AF13P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF29P ,  2H125AF30P ,  2H125AF32P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF43P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH13 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM57P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM91P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN56P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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