特許

J-GLOBAL ID：201403084667298576

化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 飯尾 匡史 ,  竹村 勝也 ,  宮崎 隆 ,  柳澤 秀好
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (5件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史 ,  正木 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-188077
公開番号（公開出願番号）：特開2014-081625
出願日： 2013年09月11日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：

【解決手段】(A)ベース樹脂、(B)光酸発生剤、(C)熱架橋剤、(D)有機溶剤を含有し、(A)が式(1)で示される高分子化合物で、(C)が式(2)で示されるシロキサン化合物である化学増幅ポジ型レジスト材料。【効果】アルカリ水溶液により容易に現像可能で且つ現像後の熱処理で良好な硬化レジストパターン膜を与えることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)ベース樹脂、 (B)光酸発生剤、 (C)熱架橋剤、 (D)有機溶剤 を含有し、(A)ベース樹脂が、下記一般式(1)

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/075 ,  C08G 59/20 ,  C08G 59/62

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/40 501 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/075 521 ,  C08G59/20 ,  C08G59/62

Fターム (36件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  2H125AE06P ,  2H125AE12P ,  2H125AE17P ,  2H125AF52P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ43X ,  2H125AJ48X ,  2H125AN39P ,  2H125AN51P ,  2H125AN88P ,  2H125BA22P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB06 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD08P ,  2H125CD37 ,  4J036AK17 ,  4J036DB05 ,  4J036FB01 ,  4J036GA26 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09 ,  4J036KA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 間隙埋め込み用組成物、それを用いた間隙埋め込み方法及び半導体素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-216660   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-274670   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型感放射線性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-027834   出願人：JSR株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-262740   出願人：株式会社ADEKA