特許

J-GLOBAL ID：201403086023367847

EUV光源内の光学系洗浄のためのシステム及び方法

発明者： ビカノフ アレクサンダー エヌ ,  デ デア シルヴィア ,  アーショフ アレクサンダー アイ ,  フルーロフ ウラディミール ビー ,  フォーメンコフ イゴー ヴィー ,  パートロ ウィリアム エヌ
出願人/特許権者： サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
代理人 (7件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  大浦 博司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-556718
公開番号（公開出願番号）：特表2014-510404
出願日： 2012年02月21日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
要約：

光学系と、EUV光放出プラズマを発生させて光学系上に堆積物を生成する1次EUV光放射体と、ガス及びレーザ生成プラズマを発生させてガスを用いて洗浄種を生成する2次光放射体を含む洗浄システムとを含む極紫外線(EUV)光源を本明細書に説明する。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

光学系と、 EUV光放出プラズマを発生させて前記光学系上に堆積物を生成する1次EUV光放射体と、 ガス及びレーザ生成プラズマを発生させて該ガスを用いて洗浄種を生成する2次光放射体を含む洗浄システムと、 を含むことを特徴とする極紫外(EUV)光源。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531S ,  G03F7/20 503

Fターム (7件)：

2H097CA15 ,  5F146GA09 ,  5F146GA21 ,  5F146GA24 ,  5F146GC05 ,  5F146GC12 ,  5F146GC13

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 極端紫外光源装置及びクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-009170   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
• シート状のターゲット材を用いたプラズマによるX線発生
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-515878   出願人：マックスプランクゲゼルシャフトツゥアーフェデルゥンデルヴィッセンシャフテンエーフォー, ゲオルクアウグストウニヴェルジテートゲッティンゲン
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-532313   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ., カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• 極紫外線(EUV)フォトリソグラフィ装置のチャンバ間のガス流を管理するシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-522903   出願人：サイマーインコーポレイテッド

審査官引用 (4件)

• 極端紫外光源装置及びクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-009170   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
• シート状のターゲット材を用いたプラズマによるX線発生
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-515878   出願人：マックスプランクゲゼルシャフトツゥアーフェデルゥンデルヴィッセンシャフテンエーフォー, ゲオルクアウグストウニヴェルジテートゲッティンゲン
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-532313   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ., カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• 極紫外線(EUV)フォトリソグラフィ装置のチャンバ間のガス流を管理するシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-522903   出願人：サイマーインコーポレイテッド