特許

J-GLOBAL ID：201403089092568497

露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 柴崎 祐一 ,  金谷 有歩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-220782
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057083
出願日： 2013年10月24日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：

【課題】複数のZヘッドを切り換えながら、移動体の高さと傾斜を継続的に計測することにより、移動体を高精度で駆動する。【解決手段】制御装置は、ウエハテーブルWTB上面の±X端部に設置された反射面39Y1,39Y2上に位置する2つのZヘッドZsR,ZsLを用いて、ウエハテーブルの高さと傾斜を計測する。ウエハテーブルのXY位置に従って、使用するZヘッドをZsR,ZsLからZsR’,ZsL(あるいはZsR,ZsL’)に切り換える。制御装置は、切り換えの際、切り換えの前後でウエハテーブルの高さと傾斜が実質的に一致するように、切り換え前に用いられるヘッドによって検出される位置情報に基づいて、切り換え後に用いられる別のヘッドによって検出されるべき位置情報を決定する。【選択図】図28

請求項（抜粋）：

投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、 前記基板を載置する移動体と、前記移動体を駆動するモータと、を有するステージシステムによって、前記基板を移動することと、 前記投影光学系の光軸と直交する二次元平面と平行な方向に関する前記移動体の位置情報の検出に用いられ、反射型の格子が形成されるスケール部材に対して、それぞれビームを照射する複数のヘッドを有する検出装置の、前記複数のヘッドのうち前記スケール部材と対向するヘッドによって、前記二次元平面と垂直な方向での前記移動体の位置情報を検出することと、 前記検出装置で検出される位置情報に基づいて、前記二次元平面と垂直な方向及び前記二次元平面に対する傾斜方向に関する前記移動体の位置を制御することと、を含み、 前記移動体の移動中、前記複数のヘッドのうち前記移動体の位置制御に用いる少なくとも1つのヘッドが別のヘッドに切り換えられるとともに、前記切り換えの前後で前記二次元平面と垂直な方向及び前記二次元平面に対する傾斜方向に関する前記移動体の位置が実質的に一致するように、前記切り換え前に用いられるヘッドによって検出される位置情報に基づいて、前記切り換え後に用いられる前記別のヘッドによって検出されるべき位置情報が決定される露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/00

FI (7件)：

H01L21/30 514C ,  H01L21/30 526Z ,  H01L21/30 525W ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D ,  G01B11/00 G ,  H01L21/30 515G

Fターム (54件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA04 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065AA24 ,  2F065AA39 ,  2F065BB02 ,  2F065BB15 ,  2F065BB27 ,  2F065CC00 ,  2F065CC20 ,  2F065EE00 ,  2F065FF10 ,  2F065FF16 ,  2F065FF42 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065GG06 ,  2F065GG13 ,  2F065GG22 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ22 ,  2F065JJ23 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  2F065LL12 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065NN20 ,  2F065PP11 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ42 ,  2H097BA01 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F146BA11 ,  5F146DA05 ,  5F146DA34 ,  5F146DB05 ,  5F146DB08 ,  5F146DB10 ,  5F146DC10 ,  5F146DD03 ,  5F146FC04 ,  5F146FC06

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 位置測定システムおよびリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-237166   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-247183   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• レジストパターン・ライン幅の算出方法、マスクパターン・ライン幅の補正方法、光近接効果補正方法、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、及び、半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-348211   出願人：ソニー株式会社
• 計測方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-044498   出願人：キヤノン株式会社
• 面位置検出方法及びそれを用いた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-346667   出願人：キヤノン株式会社
• 位置検出装置、アライメント装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-229497   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ装置及び装置製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-155593   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-010472   出願人：株式会社ニコン