特許
J-GLOBAL ID:200903018886707390
位置検出装置、アライメント装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 芳洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-229497
公開番号(公開出願番号):特開2007-048823
出願日: 2005年08月08日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 コンパクトでシンプルな構成を有し、被検面上の複数位置を検出することができる位置検出装置を提供する。【解決手段】 被検面Rの複数位置42a〜42cを検出する位置検出装置2であって、計測光を供給する光源ユニットと、共焦点光学系と、前記共焦点光学系を介した前記光源ユニットからの前記計測光を前記被検面内の異なる位置に導くリレー光学系36a〜36c,40a〜40cと、前記リレー光学系36a〜36c,40a〜40c及び前記共焦点光学系を介した前記被検面Rからの計測光を受光する受光センサと、前記受光センサからの出力に基づいて、前記被検面Rの位置を検出する検出手段とを備える。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
被検面の複数位置を検出する位置検出装置であって、
計測光を供給する光源ユニットと、
共焦点光学系と、
前記共焦点光学系を介した前記光源ユニットからの前記計測光を前記被検面内の異なる位置に導くリレー光学系と、
前記リレー光学系及び前記共焦点光学系を介した前記被検面からの計測光を受光する受光センサと、
前記受光センサからの出力に基づいて、前記被検面の位置を検出する検出手段と、
を備えることを特徴とする位置検出装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G01B 11/00
FI (3件):
H01L21/30 525D
, G03F7/20 521
, G01B11/00 A
Fターム (31件):
2F065AA01
, 2F065AA03
, 2F065BB27
, 2F065CC20
, 2F065FF10
, 2F065FF51
, 2F065GG00
, 2F065GG04
, 2F065HH04
, 2F065JJ00
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL13
, 2F065PP12
, 2F065PP24
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB12
, 5F046CB17
, 5F046CB24
, 5F046CC02
, 5F046CC16
, 5F046DA05
, 5F046DA06
, 5F046DB05
, 5F046DB11
, 5F046DC04
, 5F046DC06
, 5F046EB01
, 5F046EB03
, 5F046ED03
引用特許:
出願人引用 (15件)
-
投影露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-252528
出願人:株式会社ニコン
-
検出光学系並びに立体形状検出方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-134668
出願人:株式会社日立製作所
-
焦点位置検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-312546
出願人:株式会社ニコン
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審査官引用 (14件)
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