特許
J-GLOBAL ID:201403091287761555
半導体光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 昌義
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-289267
公開番号(公開出願番号):特開2013-102182
特許番号:特許第5561629号
出願日: 2012年12月30日
公開日(公表日): 2013年05月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】第1伝導型半導体層と、
前記第1伝導型半導体層上に形成されなる活性層と、
前記活性層上に形成されなる第2伝導型半導体層と、からなる半導体光素子の製造方法であって、
前記活性層は、第1半導体と第2半導体とを有し、
前記第2半導体のバルク成長可能温度よりも高温環境下で、前記第2半導体の1分子層厚以上に相当する原料供給し、1分子層厚以下の層厚となる前記第2半導体を形成させる半導体光素子の製造方法。
IPC (3件):
H01L 33/32 ( 201 0.01)
, H01L 33/06 ( 201 0.01)
, H01L 21/203 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 33/00 186
, H01L 33/00 112
, H01L 21/203 M
引用特許: