特許
J-GLOBAL ID：201403093278326288
材料ガス濃度制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
西村 竜平
, 佐藤 明子
, 齊藤 真大
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-020788
公開番号（公開出願番号）：特開2013-145887
特許番号：特許第5511108号
出願日： 2013年02月05日
公開日（公表日）： 2013年07月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】材料を収容するタンクと、収容された材料を気化させるキャリアガスを前記タンクに導入する導入管と、材料が気化した材料ガス及び前記キャリアガスの混合ガスを前記タンクから導出する導出管とを具備した材料気化システムに用いられる材料ガス濃度制御装置であって、
前記導出管に接続され、前記混合ガスを流すための内部流路を有した基体と、
前記内部流路を流れる混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部と、
前記濃度測定部よりも下流において、前記濃度測定部によって測定された測定濃度を予め定めた設定濃度に調節する第1バルブとを具備しており、
前記濃度測定部と前記第1バルブは前記基体に取り付けられており、
前記内部流路が、前記基体の外部から混合ガスが流入する流入口及び前記濃度測定部の間を接続する流路と、前記第1バルブ及び前記基体の外部へと混合ガスが流出する流出口の間を接続する流路とから少なくとも構成されていることを特徴とする材料ガス濃度制御装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, H01L 21/31 B
, H01L 21/304 651 H
, C23C 16/455
