特許
J-GLOBAL ID：201403098409195470

酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト

発明者：
ポール・ジェイ.ラボーム

ポール・ジェイ.ラボーム について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-190010
公開番号（公開出願番号）：特開2014-067029
出願日： 2013年09月13日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
要約：
【課題】低いライン幅ラフネス(LWR)およびウェハ処理量を得るために十分な感受性といった高解像度の微細なフィーチャが得られるEUVフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】i)ポリマー、および(ii)以下の式(I)に対応する酸発生剤、を含むフォトレジスト組成物。(式中、R1は酸不安定部分を提供する非水素置換基であり、Aは水素または非水素置換基であり、eは0〜4の整数であり、R2およびR3は同じかまたは異なる非水素置換基であり、並びにR2およびR3は一緒になって芳香族または非芳香族環を形成していてもよく、並びにZは対アニオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(i)ポリマー、および (ii)以下の式(I)に対応する酸発生剤、 を含むフォトレジスト組成物:
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00 ,  C08F 220/38
FI (5件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C09K3/00 K ,  C08F220/38
Fターム (46件)：
2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH14 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM66P ,  2H125AN11P ,  2H125AN56P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA08S ,  4J100BA15S ,  4J100BA27S ,  4J100BA56S ,  4J100BA58S ,  4J100BB07S ,  4J100BB12R ,  4J100BB12S ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BC04R ,  4J100BC43P ,  4J100BC43S ,  4J100BC53Q ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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