焦点補正を決定する方法、リソグラフィ処理セル及びデバイス製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-527573
公開番号（公開出願番号）：特表2014-529903
出願日： 2012年08月09日
公開日（公表日）： 2014年11月13日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置の焦点補正を決定する方法及び関連する装置を提供する。【解決手段】本方法は、各々が複数のグローバル補正マークを含み各々がそれ全体に対して傾斜した焦点オフセットで露光される試験基板上に複数のグローバル補正フィールドを露光するステップと、複数のグローバル補正マークの各々について焦点依存特性を測定してフィールド間焦点変動情報を決定するステップと、フィールド間焦点変動情報からフィールド間焦点補正を計算するステップと、を含む。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置の焦点補正を決定する方法であって、試験基板上の複数のグローバル補正マークの各々について焦点依存特性を測定してフィールド間焦点変動情報を決定するステップと、前記フィールド間焦点変動情報からフィールド間焦点補正を計算するステップと、を含み、前記グローバル補正マークが複数のグローバル補正フィールド内に配置され、各グローバル補正フィールドがフィールド全体にわたって傾斜した焦点オフセットで露光されている、方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 9/02 , G01B 11/00

FI (4件)：

H01L21/30 526A , H01L21/30 516Z , G03F9/02 H , G01B11/00 H

Fターム (21件)：

2F065AA04 , 2F065AA37 , 2F065BB28 , 2F065CC20 , 2F065DD03 , 2F065DD10 , 2F065GG24 , 2F065JJ03 , 2F065JJ19 , 2F065JJ26 , 2F065LL22 , 2F065LL33 , 2F065LL37 , 2F065MM01 , 2F065PP12 , 2F065TT08 , 2F065UU08 , 5F146DA07 , 5F146DA14 , 5F146DA29 , 5F146DB05

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-254019 出願人：株式会社ニコン
テストパターンが形成されたレチクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-055011 出願人：株式会社ニコン
光学系の特性を測定する方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-191508 出願人：エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド

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