凝縮性代替可能クロロフルオロカーボン雰囲気を用いた革新的なUVナノインプリントリソグラフィー

MATSUI Shinji; MATSUI Shinji; HIROSHIMA Hiroshi; HIROSHIMA Hiroshi; HIRAI Yoshihiko; HIRAI Yoshihiko; NAKAGAWA Masaru; NAKAGAWA Masaru

文献

J-GLOBAL ID：201502272507436578 整理番号：15A0228632

凝縮性代替可能クロロフルオロカーボン雰囲気を用いた革新的なUVナノインプリントリソグラフィー

Innovative UV nanoimprint lithography using a condensable alternative chlorofluorocarbon atmosphere

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資料名：
巻： 133 ページ： 134-155 発行年： 2015年02月05日
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

UVナノインプリントリソグラフィーにおいて凝縮性のガスを用いることの有効性は実証されている。UVナノインプリントリソグラフィーにおいて真空を用いない場合の固有の問題として発生するバブル欠陥はクロロフルオロカーボンの代替材料である凝縮性の1,1,1,3,3-ペンタフルオロプロパン(PFP)を用いることで解決できる。PFPを用いてUVナノインプリントリソグラフィーで必要となる薄い残留層を残したままで45-nmの2分の1のパターンを良好に形成できた。PFPはUV硬化樹脂の粘度と離型時に必要な力を低減する。この性質は有用でUVリソグラフィープロセスのスループットと信頼性を増大する。PFPはUV硬化樹脂を含むモノマーの化学的構造によっては,たまに大きなパターン収縮やパターン品質の低下を招く。この問題はPFPの吸収の少ないモノマーを選択することによって軽減できる。我々は22-nmノードのNANDフラッシュメモリのために,適切な線幅粗さ,そして線端粗さを得ることができた。また,PFPを用いて単一モールドによる20,000回の繰返しインプリントを達成した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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固体デバイス製造技術一般 , その他の高分子の反応

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