特許
J-GLOBAL ID：201503002591209864
活性種照射装置、活性種照射方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前井 宏之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-553331
特許番号：特許第5818176号
出願日： 2013年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマ生成ガスと活性種生成ガスとが流れ込むチャンバであって、活性種が照射される活性種照射口を有するチャンバと、
前記チャンバの一部分であって、前記プラズマ生成ガスの流れの上流部分に位置する上流電極と、
前記チャンバの一部分であって、前記上流電極よりも前記プラズマ生成ガスの流れの下流部分に位置し、前記上流電極との間に電圧を印加することによって前記上流電極との間において前記プラズマ生成ガスからプラズマを生成させる下流電極と
を備えた活性種照射装置であって、
前記チャンバは、前記プラズマ生成ガスの流入口を有し前記上流電極が位置し前記第1方向に延びる第1管部と、前記活性種生成ガスの流入口を有し前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2管部と、前記活性種照射口を有し前記下流電極が位置し前記第1方向と平行な第3方向に延びる第3管部とを含み、前記第1管部と前記第2管部と前記第3管部とが一か所で繋がり非同軸の三方管を形成するように構成されており、
前記上流電極は、前記第1管部の外周上に同軸状に設けられており、
前記下流電極は、前記第3管部の外周上に同軸状に設けられている、活性種照射装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24 ( 200 6.01)
, C02F 1/30 ( 200 6.01)
, A61L 2/14 ( 200 6.01)
H05H 1/24
, C02F 1/30
, A61L 2/14
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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