特許
J-GLOBAL ID：201503006022246099

大面積を有する基板のテクスチャ加工方法

発明者：
ニコラ シュマン

ニコラ シュマン について

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ジェレミー テセール

ジェレミー テセール について

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エリン ゾンデルガルト

エリン ゾンデルガルト について


出願人/特許権者：
サン-ゴバン グラス フランス

サン-ゴバン グラス フランス について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  高橋 正俊 ,  河野上 正晴
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512106
公開番号（公開出願番号）：特表2015-522443
出願日： 2013年05月14日
公開日（公表日）： 2015年08月06日
要約：
本発明は:基板上にテクスチャを形成する方法であって、前記方法が:前記基質上に変形可能層を堆積すること;前記変形可能層を、子型のテクスチャ加工された面と接触させること;前記コーティングされた基板及び前記子型を、不透過性材料から作られたパウチ内に導入すること;前記パウチ及び前記パウチの内容物を気密性容器に導入すること;最大で0.5バールと等しい圧力に達するまで、前記容器から空気を排除すること;前記容器中に空気を再導入する前に前記パウチを密封すること;前記密封されたパウチ及び前記パウチの内容物をオートクレーブ内に導入すること;両端値を含む0.5〜8バールの圧力及び両端値を含む25〜400°Cの温度を、15分間から数時間、適用すること;前記パウチを開くこと;次いで前記基板及び前記子型を分離すること;を含む、方法、前記方法により得られる、テクスチャ加工された層でコーティングされたガラス基板を備える透明アセンブリ;並びに光を抽出、誘導するか又は光の方向を変えることを目的とする基板を得るため、又は超疎水性又は超親水性基板を得るための、この方法の適用;に関する。
請求項（抜粋）：
基板上にテクスチャを形成する方法であって、前記方法が: 前記基板上に変形可能層を堆積すること; 前記変形可能層を、子型のテクスチャ加工された面と接触させること; 前記コーティングされた基板及び前記子型を、不透過性材料から作られたパウチ内に導入すること; 前記パウチ及び前記パウチの内容物を、気密性容器に導入すること; 最大で0.5バールと等しい圧力に達するまで、前記容器から空気を排気すること; 前記容器中に空気を再導入する前に、前記パウチを密封すること; 前記密封されたパウチ及び前記パウチの内容物を、オートクレーブ内に導入すること; 両端値を含む0.5〜8バールの圧力及び両端値を含む25〜400°Cの温度を、15分間から数時間、適用すること; 前記パウチを開くこと;次いで 前記基板及び前記子型を分離すること; を含むことを特徴とする、方法。
IPC (5件)：
B29C 43/12 ,  H01L 21/027 ,  B29C 59/04 ,  B29C 43/56 ,  B29C 43/18
FI (5件)：
B29C43/12 ,  H01L21/30 502D ,  B29C59/04 Z ,  B29C43/56 ,  B29C43/18
Fターム (43件)：
4F204AA04 ,  4F204AA11 ,  4F204AA13 ,  4F204AA15 ,  4F204AA21 ,  4F204AA28 ,  4F204AA29 ,  4F204AC01 ,  4F204AC04 ,  4F204AD04 ,  4F204AD08 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204AH33 ,  4F204AJ10 ,  4F204AM28 ,  4F204AR02 ,  4F204AR06 ,  4F204FA01 ,  4F204FA13 ,  4F204FB01 ,  4F204FB11 ,  4F204FF05 ,  4F204FN11 ,  4F204FN15 ,  4F204FN20 ,  4F204FQ37 ,  4F209AA13 ,  4F209AA21 ,  4F209AA36 ,  4F209AC01 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ10 ,  4F209AR02 ,  4F209AR06 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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