特許
J-GLOBAL ID：200903015628945732
ソフトリソグラフィ用複合パターニングデバイス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山田 行一
, 野田 雅一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-510931
公開番号（公開出願番号）：特表2008-507114
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：
本発明は、基板表面上にパターン、特に一、二または三次元の選択された長さのマイクロサイズおよび/またはナノサイズの特徴部を有する構造を含むパターンを作製するための方法、デバイスおよびデバイスコンポーネントを提供する。本発明は、各種基板表面および表面形態上に高解像度パターニングを与えるために、ヤング率および曲げ剛性等の選択された機械的特性、厚さ、表面面積およびレリーフパターン寸法等の選択された物理的寸法、および熱膨張係数等の選択された熱的特性をそれぞれが有する複数のポリマー層を備える複合パターニングデバイスを提供する。【選択図】 図1A
請求項（抜粋）：
基板表面上にパターンを生成するための複合パターニングデバイスであって、
その上に配置された少なくとも1つの接触表面を有する三次元レリーフパターンを含み、低ヤング率を有し、前記接触表面に対向する内部表面を有する第1のポリマー層と、
内部表面および外部表面を有し、高ヤング率を有する第2のポリマー層と
を備え、
前記第2のポリマー層の外部表面に加えられる力が前記第1のポリマー層に伝送されるように、前記第1のポリマー層および前記第2のポリマー層が配列され、
前記第1のポリマー層の前記接触表面の少なくとも一部と前記基板表面の間に共形接触を確立可能である、デバイス。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, G03F 7/20
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
, G03F7/20 501
2H097AA20
, 2H097GA15
, 2H097GA31
, 2H097GA45
, 2H097LA10
, 4F209AA33
, 4F209AA40
, 4F209AD08
, 4F209AG03
, 4F209AH33
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PH02
, 4F209PN03
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
