リソグラフィ装置および方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-259496
公開番号（公開出願番号）：特開2013-135217
特許番号：特許第5784576号
出願日： 2012年11月28日
公開日（公表日）： 2013年07月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】変位測定システムであって、少なくとも1つのレトロリフレクタと、回折格子と、センサと、を備え、前記変位測定システムは、該変位測定システムに第1放射ビームを提供することによって変位を測定し、前記回折格子は、前記第1放射ビームを1回目回折して複数の回折ビームを形成し、前記少なくとも1つのレトロリフレクタは、続いて前記回折ビームを前記回折格子上で2回目回折するように方向転換させ、前記少なくとも1つのレトロリフレクタは、前記回折ビームが第2ビームを形成するために再結合される前に、前記回折ビームを前記回折格子上で少なくとも3回目回折するように方向転換させ、前記センサは、前記第2ビームを受信して前記第2ビームの強度から変位を決定し、前記少なくとも1つのレトロリフレクタおよび前記回折格子は、基板を支持する基板テーブルに設置され、前記センサは、前記基板テーブルを位置決めする位置決めデバイスに設置され、または、前記少なくとも1つのレトロリフレクタおよび前記回折格子は、パターニングデバイスを支持するサポートに設置され、前記センサは、前記サポートを位置決めする位置決めデバイスに設置される、変位測定システム。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) , G01B 11/00 ( 200 6.01) , H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/20 521 , G01B 11/00 G , H01L 21/68 F

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-266224
特開昭63-277926
特開昭63-277926

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