特許
J-GLOBAL ID：201503012914734004

汚染物除去装置及び方法

発明者：
スワンソン ゴードン スコット

スワンソン ゴードン スコット について

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ヴァーギース イヴィン

ヴァーギース イヴィン について

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バルーチ メフディ

バルーチ メフディ について


出願人/特許権者：
レイヴ エヌ.ピー. インコーポレイテッド

レイヴ エヌ.ピー. インコーポレイテッド について


代理人 (7件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  弟子丸 健 ,  井野 砂里 ,  松下 満 ,  倉澤 伊知郎 ,  山本 泰史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512839
公開番号（公開出願番号）：特表2015-525464
出願日： 2013年05月16日
公開日（公表日）： 2015年09月03日
要約：
基板ドライ洗浄装置、基板ドライ洗浄システム、及び基板を洗浄する方法を開示する。基板ドライ洗浄システムは、基板支持体及び反応種発生器を含む。反応種発生器は、導管の出口まで延びる第1の流れチャネルを形成し、導管の出口が基板支持体に対面する第1の導管と、第1の電極と、第1の電極と対面し、第1の電極との間に第1の流れチャネルが配置された第2の電極と、第1の電極と第1の流れチャネルの間に配置された第1の不活性壁と、第2の電極と第1の流れチャネルの間に配置された第2の不活性壁とを含む。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
第1の流れチャネルを形成し、該第1の流れチャネルと流体連通する第1の出口開口を更に形成する第1の導管と、 容器に配置された第1の電極と、 前記第1の電極と対面し、該第1の電極との間に前記第1の流れチャネルが配置された第2の電極と、 低い大気圧融点を有し、前記第1の電極と前記容器の間の間隙を充填する金属と、 を含むことを特徴とする基板ドライ洗浄装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 ,  B08B 7/00 ,  H05H 1/30 ,  H05H 1/24 ,  H05H 3/02
FI (6件)：
H01L21/304 645C ,  B08B7/00 ,  H01L21/304 645Z ,  H05H1/30 ,  H05H1/24 ,  H05H3/02
Fターム (38件)：
2G084AA03 ,  2G084AA13 ,  2G084BB11 ,  2G084CC19 ,  2G084CC34 ,  2G084DD12 ,  2G084DD13 ,  2G084DD18 ,  2G084DD22 ,  2G084DD63 ,  2G084DD65 ,  2G084FF02 ,  2G084FF13 ,  2G084FF15 ,  2G084FF31 ,  2G084FF38 ,  2G084GG02 ,  2G084GG03 ,  2G084GG07 ,  2G084GG18 ,  2G084GG23 ,  2G084GG29 ,  2G084HH09 ,  2G084HH36 ,  2G085BB17 ,  2G085EA08 ,  3B116AA01 ,  3B116BA06 ,  3B116BB32 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  5F157AA42 ,  5F157AA43 ,  5F157BD35 ,  5F157BD43 ,  5F157BG33 ,  5F157BG35 ,  5F157BG39
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)

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