特許
J-GLOBAL ID：201503013697700046

インプリント装置、型、および物品の製造方法

発明者：
佐藤 仁至

佐藤 仁至 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-021234
公開番号（公開出願番号）：特開2015-149390
出願日： 2014年02月06日
公開日（公表日）： 2015年08月20日
要約：
【課題】型のパターン部へのパーティクルの付着を抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置100は、誘電体で形成され、パターンが形成されたパターン部5aと第1導電膜30とを有する型5を用いて、基板上に供給されたインプリント材にパターンを転写するものであり、型5の本体を介して第1導電膜30に対向する位置に設置される第2導電膜31と、第1導電膜30および第2導電膜31に接続され、第1導電膜30および第2導電膜31に通電して電荷を帯電させる電源32とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
誘電体で形成され、パターンが形成されたパターン部と第1導電膜とを有する型を用いて、基板上に供給されたインプリント材に、前記パターンを転写するインプリント装置であって、 前記型の本体を介して前記第1導電膜に対向する位置に設置される第2導電膜と、 前記第1導電膜および前記第2導電膜に接続され、該第1導電膜および該第2導電膜に通電して電荷を帯電させる電源と、 を有することを特徴とするインプリント装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/02
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 Z
Fターム (24件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH36 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AM32 ,  4F202CA01 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD22 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ20 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32
引用特許：
審査官引用 (11件)
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