特許
J-GLOBAL ID：201503014641573625

低抵抗微細加工フィルタ

発明者：
カント, リッシ

カント, リッシ について

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ロイ, シュヴォ

ロイ, シュヴォ について

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チュイ, ベンジャミン

チュイ, ベンジャミン について

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ゴールドマン, ケネス ジー.

ゴールドマン, ケネス ジー. について


出願人/特許権者：
ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア

ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア について


代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512854
公開番号（公開出願番号）：特表2015-521103
出願日： 2013年05月16日
公開日（公表日）： 2015年07月27日
要約：
本技術は、微細加工ろ過デバイス、そうしたデバイスを作る方法、及び微細加工ろ過デバイスのための使用法を提供する。本デバイスは、従来のろ過デバイスと比較して、2つの流体間で輸送抵抗特性が改善された拡散を行わせることができる。本デバイスは、支持体構造の上に重なる多孔質膜を含む複合構造を含むことができる。支持体構造は、修正された第1の流体の対流が、膜を通る第1の流体と第2の流体間の拡散輸送を改善することができるよう形成されたキャビティ及び複数の凹部を画成することができる。
請求項（抜粋）：
それぞれが約100nm未満の幅を有する複数の孔を備える平坦な膜部分と、 前記膜部分と結合した基板を備える支持体部分であって、前記基板が複数の厚い部分、及び隣接する厚い部分間にある第2の薄い部分において前記厚い部分間にある複数の凹部を含み、前記凹部が前記複数の孔の前記孔と通じる支持体部分と を備える微細加工ろ過デバイス。
IPC (4件)：
B01D 69/12 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/00 ,  B01D 69/06
FI (4件)：
B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  B01D69/00 ,  B01D69/06
Fターム (22件)：
4D006GA06 ,  4D006GA12 ,  4D006MA09 ,  4D006MA11 ,  4D006MA21 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB11 ,  4D006MB16 ,  4D006MC01 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC05 ,  4D006MC24 ,  4D006MC30 ,  4D006MC37 ,  4D006MC65 ,  4D006NA33 ,  4D006PA01 ,  4D006PB09 ,  4D006PB52 ,  4D006PC41
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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