特許
J-GLOBAL ID：201503014875000432

基板乾燥装置、制御プログラム、及び基板乾燥方法

発明者：
石橋 知淳

石橋 知淳 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (7件)： 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  森田 耕司 ,  加藤 真司 ,  鈴木 守 ,  津田 理 ,  松野 知紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-084372
公開番号（公開出願番号）：特開2015-204427
出願日： 2014年04月16日
公開日（公表日）： 2015年11月16日
要約：
【課題】 良好な枚葉IPA乾燥を行うことで欠陥の発生を抑制できる基板乾燥装置を提供する。 【解決手段】 基板Wを水平面内で回転させる基板回転機構10と、基板Wに対して相対的に基板Wの中心Wcから遠ざかるように移動しつつ、基板Wにリンス液Rを吐出するリンス液ノズル20と、リンス液ノズル20の移動に伴って基板Wに対して相対的に基板Wの中心Wcから遠ざかるように移動しつつ、基板Wに乾燥気体Gを吹出する乾燥気体ノズル30と、リンス液ノズル20及び乾燥気体ノズル30の移動に伴って基板Wの中心Wcから遠ざかるように移動することで、基板Wの表面WAのリンス液Rの界面Re付近をセンシングする液領域センサ51及び乾燥領域センサ52と、液領域センサ51及び乾燥領域センサ52のセンシング結果に基づいて、リンス液Rと乾燥気体Gによって基板Wの表面WAにリンス液Rの界面Reが基板Wの外周に向けて広がるように、乾燥条件を制御する制御部53とを備えている。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
基板を水平面内で回転させる基板回転機構と、 前記基板回転機構によって回転する前記基板に対して相対的に前記基板の中心から遠ざかるように移動しつつ、前記基板にリンス液を吐出するリンス液ノズルと、 前記リンス液ノズルの移動に伴って前記基板回転機構によって回転する前記基板に対して相対的に前記基板の中心から遠ざかるように移動しつつ、前記基板に乾燥気体を吹出する乾燥気体ノズルと、 前記リンス液ノズル及び前記乾燥気体ノズルの移動に伴って前記基板の中心から遠ざかるように移動することで、前記基板の表面の前記リンス液の界面付近をセンシングするセンサと、 前記センサのセンシング結果に基づいて、前記リンス液と前記乾燥気体によって前記基板の表面に前記リンス液の界面が前記基板の外周に向けて広がるように、乾燥条件を制御する制御部と、 を備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (4件)：
H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 622Q
Fターム (47件)：
5F057AA12 ,  5F057AA21 ,  5F057BA22 ,  5F057BB23 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057FA12 ,  5F057FA37 ,  5F057FA45 ,  5F057GA27 ,  5F057GB01 ,  5F057GB02 ,  5F057GB11 ,  5F157AA32 ,  5F157AA35 ,  5F157AA70 ,  5F157AA73 ,  5F157AA79 ,  5F157AA96 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BB32 ,  5F157BB44 ,  5F157BE12 ,  5F157BF22 ,  5F157BG13 ,  5F157BG14 ,  5F157BG22 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CB15 ,  5F157CD10 ,  5F157CD42 ,  5F157CE07 ,  5F157CE25 ,  5F157CE42 ,  5F157CF42 ,  5F157DB32 ,  5F157DB37 ,  5F157DB43 ,  5F157DC90
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM