基板処理方法及び基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-040836
公開番号（公開出願番号）：特開2007-220956
出願日： 2006年02月17日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：

【課題】感光性レジスト等の洗浄処理に際して、基板外周部での欠陥を減少させることができ、且つ基板中央部の欠陥をも減少させる。【解決手段】被処理基板上に洗浄液を供給して洗浄するための基板処理方法において、被処理基板10を連続的に回転させながら、基板10の中心領域に洗浄液を間欠的に供給すると共に、基板10の周辺領域に洗浄液を連続的に供給することにより、基板10の回転に伴い基板10上の液膜が中心領域から周辺領域に単調に増加し、かつ中心領域がほぼ乾燥するように処理する工程を、複数回繰り返す。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

被処理基板を連続的に回転させながら、前記基板の中心領域に洗浄液を間欠的に供給すると共に、前記基板の周辺領域に洗浄液を連続的に供給することにより、前記基板の回転に伴い前記基板上の液膜が中心領域から周辺領域に単調に増加し、かつ中心領域がほぼ乾燥するように処理する工程を、複数回繰り返すことを特徴とする基板処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304

FI (5件)：

H01L21/30 569C , H01L21/304 651B , H01L21/304 643A , H01L21/304 648G , H01L21/30 569F

Fターム (3件)：

5F046LA03 , 5F046LA05 , 5F046LA14

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置および現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-241595 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (10件)

薬液処理方法及び薬液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-258228 出願人：ソニー株式会社, 大日本スクリーン製造株式会社
基板乾燥装置および基板洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-265891 出願人：株式会社日立製作所
基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-065658 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

全件表示

前のページに戻る