特許
J-GLOBAL ID：201203053376227755

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者：
宮城 聡

宮城 聡 について

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春本 将彦

春本 将彦 について

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須山 定保

須山 定保 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-154509
公開番号（公開出願番号）：特開2012-019002
出願日： 2010年07月07日
公開日（公表日）： 2012年01月26日
要約：
【課題】基板に付着するリンス液に起因する基板の処理不良を防止することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板Wが回転するとともに、気液供給ノズル453の液体ノズル453aが回転する基板Wの中心部WCの上方の位置まで移動する。この状態で、液体ノズル453aから回転する基板Wにリンス液が吐出される。気液供給ノズル453が基板Wの外方位置に向かって移動する。ガスノズル453bが回転する基板Wの中心部WCの上方位置に到達することにより、気液供給ノズル453が一時的に停止する。気液供給ノズル453が停止した状態で、回転する基板W上の中心部WCに一定時間不活性ガスが吐出される。その後、気液供給ノズル453が再び基板Wの外方位置に向かって移動する。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
基板の洗浄および乾燥を行う基板洗浄方法であって、 基板を略水平に保持しつつ基板に垂直な軸の周りで回転させる工程と、 リンス液を吐出する第1のノズルを用いて回転する基板上の中心部にリンス液を吐出する工程と、 前記第1のノズルから吐出されたリンス液を受ける基板上の位置が基板上の中心部から基板上の周縁部に向かって一定距離移動するように前記第1のノズルを移動させる工程と、 前記リンス液を受ける基板上の位置が基板上の中心部から一定距離離間した状態を保持しつつ、気体を吐出する第2のノズルを用いて基板上の中心部に一定時間気体を吐出することにより基板上の中心部に乾燥領域を形成する工程と、 基板上の中心部に乾燥領域が形成された後、前記リンス液を受ける基板上の位置が基板上の周縁部に向かって連続的に移動するように前記第1のノズルを移動させるとともに、前記第2のノズルから吐出された気体を受ける基板上の位置が前記リンス液を受ける基板上の位置から前記一定距離離間しつつ前記リンス液を受ける基板上の位置の移動経路をたどるように前記第2のノズルを連続的に移動させる工程とを備えることを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/306
FI (7件)：
H01L21/30 569C ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 D ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/306 R
Fターム (40件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB44 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB62 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD43 ,  5F043AA40 ,  5F043BB27 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA19 ,  5F146LA03 ,  5F146LA04 ,  5F146LA19 ,  5F157AA67 ,  5F157AA92 ,  5F157AB02 ,  5F157AB90 ,  5F157AC04 ,  5F157AC24 ,  5F157BB22 ,  5F157BB23 ,  5F157BB44 ,  5F157CB15 ,  5F157CE25 ,  5F157CE59 ,  5F157CF72 ,  5F157DB37
引用特許：
審査官引用 (9件)
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