特許
J-GLOBAL ID：201503015282887062
酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-190010
公開番号（公開出願番号）：特開2014-067029
特許番号：特許第5830503号
出願日： 2013年09月13日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (i)ポリマー、および
(ii)以下の式(I)に対応する酸発生剤、
を含むフォトレジスト組成物:
(式中、R1は酸不安定部分を提供する非水素置換基であり;かつR1はエステル結合を含み;
Aは水素または非水素置換基であり;eは0〜4の整数であり;
R2およびR3は同じかまたは異なる非水素置換基であり、ここで、R2およびR3は一緒になって芳香族または非芳香族環を形成していてもよく;並びに
Zは対アニオンである)。
IPC (2件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
