特許
J-GLOBAL ID：201503016029087640
ブロックコポリマー組成物から得られる厚いナノ構造フィルムを製造するための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
園田 吉隆
, 小林 義教
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-182834
公開番号（公開出願番号）：特開2015-071756
出願日： 2014年09月09日
公開日（公表日）： 2015年04月16日
要約：
【解決手段】1.1〜2の分散度指数を示し数平均分子量が1000〜300000g/molで多峰性のクロマトグラムを示す、制御ラジカル重合により調整されるPS-PMMAジブロックコポリマーから得られる組成物を、溶解または溶解させずに表面に沈着させた後にアニールして厚さ20〜300nmのナノ構造フィルムを製造するための方法。【効果】ナノ構造フィルムが表面にナノ構造化欠陥を有さず大きい単結晶面を示し、したがってこの処理表面がマイクロエレクトロニクスにおいて適用されるマスクとして使用できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
分散度が1.1から2の間の値であるブロックコポリマー組成物から得られる、欠陥が最小限である厚いナノ構造フィルムを製造するための方法であって、
- 分散度が1.1から2の間の値を示すブロックコポリマー組成物を調製する段階と、
- この組成物を溶解させて又は溶解させずに表面に沈着させる段階と、
- アニールする段階と
を含む、方法。
IPC (3件)：
C08J 5/18
, C08F 293/00
, H01L 21/027
C08J5/18
, C08F293/00
, H01L21/30 502D
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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