特許
J-GLOBAL ID：201503017778064212

処理液ノズル及び塗布処理装置

発明者：
西村 理志

西村 理志 について

, 
井本 直樹

井本 直樹 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  扇田 尚紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-011739
公開番号（公開出願番号）：特開2015-138961
出願日： 2014年01月24日
公開日（公表日）： 2015年07月30日
要約：
【課題】処理液中の異物を除去して処理液ノズルの詰まりを抑制し、処理液ノズルから基板に処理液を適切に供給することを目的とする。【解決手段】処理液ノズル132は、上部ブロック200と、下部ブロック201と、上部ブロック200と下部ブロック201の内部に形成された溶剤の流通空間202と、溶剤の吐出口243と流通空間202とを接続する溶剤の流通路244と、を有する。流通空間202は、流通路244の上端より下方に形成され、溶剤中の異物を沈降させて捕集するための異物捕集空間231を有する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給する処理液ノズルであって、 中空のノズル本体と、 前記ノズル本体の内部に形成された処理液の流通空間と、 前記ノズル本体の下部に形成された処理液の吐出口と前記流通空間とを接続し、当該ノズル本体を鉛直方向に貫通する処理液の流通路と、を有し、 前記流通空間は、前記流通路の上端より下方に形成され、処理液中の異物を沈降させて捕集するための異物捕集空間を有することを特徴とする、処理液ノズル。
IPC (1件)：
H01L 21/02
FI (1件)：
H01L21/02 C
Fターム (4件)：
4F042AA07 ,  4F042CC10 ,  4F042EB25 ,  4F042EB28
引用特許：
審査官引用 (4件)
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