特許
J-GLOBAL ID：201503018817980163

基板処理装置

発明者：
ヤン、 イル クァン

ヤン、 イル クァン について

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ソン、 ビョン-ギュ

ソン、 ビョン-ギュ について

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キム、 キョン-フン

キム、 キョン-フン について

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キム、 ヨン-キ

キム、 ヨン-キ について

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シン、 ヤン シク

シン、 ヤン シク について


出願人/特許権者：
ユ-ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド

ユ-ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド について


代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  原 裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-531866
公開番号（公開出願番号）：特表2015-529983
出願日： 2013年09月17日
公開日（公表日）： 2015年10月08日
要約：
本発明の一実施形態によると、基板に対する工程が行われる基板処理装置において、上部が開放された形状を有し、一側壁に形成されて前記基板が出入する通路を有するメインチャンバーと、前記メインチャンバーの開放された上部に設置され、外部から遮断されて前記工程が行われる工程空間を形成するチャンバー蓋と、下部が開放された形状の内部空間を有し、前記基板が置かれるサセプタプレートと、前記内部空間に設置されて回転可能であり、前記サセプタプレートから離隔配置されて前記サセプタプレートを加熱するメインヒータと、を含む。
請求項（抜粋）：
基板に対する工程が行われる基板処理装置において、 上部が開放された形状を有し、一側壁に設置されて前記基板が出入する通路を有するメインチャンバーと、 前記メインチャンバーの開放された上部に設置され、外部から遮断されて前記工程が行われる工程空間を形成するチャンバー蓋と、 下部が開放された形状の内部空間を有し、前記基板が置かれるサセプタプレートと、 前記内部空間に設置されて回転可能であり、前記サセプタプレートから離隔配置されて前記サセプタプレートを加熱するメインヒータと、を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/46
FI (3件)：
H01L21/205 ,  H01L21/31 B ,  C23C16/46
Fターム (28件)：
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030AA20 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030KA08 ,  4K030KA23 ,  4K030KA25 ,  4K030KA28 ,  5F045AA01 ,  5F045AA03 ,  5F045AC01 ,  5F045AC05 ,  5F045AC15 ,  5F045AC19 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EK07 ,  5F045EK21 ,  5F045EK23 ,  5F045EN04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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