特許
J-GLOBAL ID:201503020394464451

基板保持部材の洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-269768
公開番号(公開出願番号):特開2015-123409
出願日: 2013年12月26日
公開日(公表日): 2015年07月06日
要約:
【課題】基板保持部材を加工する際に生じた基板保持部材に付着した金属汚れの残存を抑制できる基板保持部材の洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明の洗浄方法は、基板Wを保持する静電チャック10の表面を洗浄液で洗浄する前洗浄工程と、基板Wを静電チャック10に吸着させながら、基板Wより静電チャック10が高電位になるように基板W及び静電チャック10に直流電圧を印加する電圧印加工程とを備える。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基板を保持するセラミックス部材である基板保持部材の表面を洗浄液で洗浄する前洗浄工程と、 前記基板を前記基板保持部材に吸着させながら、前記基板と前記基板保持部材又は前記基板保持部材の吸着面と反対側に設けた導電性部材とに、前記基板より前記基板保持部材又は前記導電性部材が高電位になるように直流電圧を印加する電圧印加工程とを備える基板保持部材の洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 7/00 ,  H01L 21/683 ,  H02N 13/00
FI (3件):
B08B7/00 ,  H01L21/68 P ,  H02N13/00 D
Fターム (18件):
3B116AA47 ,  3B116AB53 ,  3B116BA01 ,  3B116BB02 ,  3B116BB82 ,  3B116BB83 ,  3B116BC01 ,  3B116BC07 ,  3B116CA01 ,  3B116CD43 ,  5F131AA02 ,  5F131BA37 ,  5F131CA13 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB54 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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