フォトマスク及びフォトマスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森脇正志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-154412
公開番号（公開出願番号）：特開2015-025894
出願日： 2013年07月25日
公開日（公表日）： 2015年02月05日
要約：

【課題】静電破壊を防止できる裏面保持式の露光装置に適用可能なフォトマスクとその製造方法を提供する。【解決手段】マスクパターン4が形成された透明基板1の膜面側に、マスクパターン4と導通する導電膜2が設けられ、この導電膜2が透明基板1の膜面側から側面部に達する。このような構成のフォトマスクによると、裏面保持式の近接露光装置に取り付けてもチャージアップしにくく、静電破壊によるパターンの消失を効果的に防止できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フォトマスクであって、マスクパターンが形成された膜面側に前記マスクパターンと導通する導電膜が設けられ、前記膜面側からフォトマスクの側面部に達することを特徴とするフォトマスク。

IPC (1件)：

G03F 1/40

FI (1件)：

G03F1/40

Fターム (4件)：

2H095BA03 , 2H095BB25 , 2H095BC16 , 5F146BA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭61-270761
特開昭55-096951
フォトマスクの使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-111245 出願人：株式会社エイチ・ティー・エル

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