特許
J-GLOBAL ID:201503042461015007
半導体装置および半導体装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-268344
公開番号(公開出願番号):特開2015-029038
出願日: 2013年12月26日
公開日(公表日): 2015年02月12日
要約:
【課題】従来に比べて、ソースおよび/またはドレイン電極と、半導体層との間の接触抵抗が有意に抑制された半導体装置を提供する。【解決手段】ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極および半導体層を有する半導体装置であって、前記ソース電極および前記ドレイン電極の片方または双方と前記半導体層との間に、カルシウム原子およびアルミニウム原子を含む非晶質酸化物のエレクトライドの薄膜を有することを特徴とする半導体装置。【選択図】図3
請求項(抜粋):
ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極および半導体層を有する半導体装置であって、
前記ソース電極および前記ドレイン電極の片方または双方と前記半導体層との間に、カルシウム原子およびアルミニウム原子を含む非晶質酸化物のエレクトライドの薄膜を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (7件):
H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 21/28
, H01L 29/417
, H01L 51/50
, H05B 33/26
, H05B 33/02
FI (10件):
H01L29/78 616V
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 616U
, H01L29/78 616K
, H01L21/28 301B
, H01L29/50 M
, H01L21/28 A
, H05B33/14 A
, H05B33/26 Z
, H05B33/02
Fターム (73件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB08
, 3K107CC11
, 3K107CC31
, 3K107DD46Y
, 3K107EE04
, 3K107FF04
, 3K107FF14
, 3K107FF15
, 4M104AA03
, 4M104AA08
, 4M104AA09
, 4M104AA10
, 4M104BB02
, 4M104BB04
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB08
, 4M104BB09
, 4M104BB13
, 4M104BB14
, 4M104BB16
, 4M104BB17
, 4M104BB18
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104DD28
, 4M104GG08
, 4M104GG14
, 4M104HH15
, 5F110AA03
, 5F110BB01
, 5F110CC01
, 5F110CC03
, 5F110CC05
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF04
, 5F110FF09
, 5F110FF27
, 5F110FF28
, 5F110FF29
, 5F110GG01
, 5F110GG05
, 5F110GG06
, 5F110GG42
, 5F110GG43
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK06
, 5F110HK07
, 5F110HK17
, 5F110HK21
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HK42
, 5F110NN71
, 5F110QQ09
引用特許:
引用文献:
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