特許
J-GLOBAL ID：201503047138457604

フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者：
甲斐 亜希子

甲斐 亜希子 について

, 
内藤 亮一郎

内藤 亮一郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二 ,  松澤 寿昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-258225
公開番号（公開出願番号）：特開2015-115534
出願日： 2013年12月13日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
要約：
【課題】パーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ処理方法を提供する。【解決手段】フィルタ処理方法は、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を、フィルタ本体を内部に有するフィルタ装置Fに供給する第1のステップと、第1のステップの後、フィルタ装置F内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置F内から排出する第2のステップと、第2のステップの後で且つフィルタ本体が乾燥する前に、水を主溶媒とする薬液である水系薬液をフィルタ装置Fに供給する第3のステップとを含む。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を、フィルタを内部に有するフィルタ装置に供給する第1のステップと、 前記第1のステップの後、前記フィルタ装置内に溜まった前記有機系薬液を前記フィルタ装置内から排出する第2のステップと、 前記第2のステップの後で且つ前記フィルタが乾燥する前に、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第3のステップとを含む、フィルタ処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/30 569A ,  H01L21/304 648F
Fターム (17件)：
5F146LA03 ,  5F146LA12 ,  5F157AA73 ,  5F157AA91 ,  5F157AC01 ,  5F157BE12 ,  5F157BF01 ,  5F157CC02 ,  5F157CC11 ,  5F157CC41 ,  5F157CE10 ,  5F157CE11 ,  5F157CF60 ,  5F157CF74 ,  5F157DB02 ,  5F157DB18 ,  5F157DC90
引用特許：
審査官引用 (7件)
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