特許

J-GLOBAL ID：201503056467968732

重合体

発明者： 中原 一雄 ,  中島 浩光 ,  木村 礼子
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 天野 一規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-005395
公開番号（公開出願番号）：特開2015-078385
出願日： 2015年01月14日
公開日（公表日）： 2015年04月23日
要約：

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物の成分として好適な重合体の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、下記式(i)で表される基を含む構造単位(I)を有し、上記構造単位(I)の全構造単位に対する含有割合が10モル%以上100モル%以下である重合体である。(式(i)中、Raは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、-Ra1、-O-Ra1、-CO-Ra1又は-CO-O-Ra1である。Rbは、少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜10の1価の鎖状炭化水素基又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数3〜20の1価の脂肪族環状炭化水素基である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(i)で表される基を含む構造単位(I) を有し、 上記構造単位(I)の全構造単位に対する含有割合が10モル%以上である重合体。

IPC (3件)：

C08F 220/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004

FI (3件)：

C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501

Fターム (42件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ70X ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BB11P ,  4J100BB12Q ,  4J100BC22R ,  4J100BC23R ,  4J100BC43Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-068172   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-283966   出願人：東京応化工業株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-272660   出願人：信越化学工業株式会社
• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-259333   出願人：信越化学工業株式会社