特許

J-GLOBAL ID：201503058398986289

マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系

発明者： インゴ ゼンガー
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
代理人 (7件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  岸 慶憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-257673
公開番号（公開出願番号）：特開2014-131031
特許番号：特許第5686882号
出願日： 2013年12月13日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、 ミラー配置(200)によって反射される光の角度分布を変更する目的に対して互いに独立に調節可能である複数のミラー要素(200a,200b,200c,...)を有するミラー配置(200)と、 少なくとも2つの偏光影響構成要素(401,402,403)を有し、該偏光影響構成要素を変位させることにより、該少なくとも2つの偏光影響構成要素(401,402,403)のオーバーラップ度を可変方式で設定することができる偏光影響光学配置(400)と、 光伝播方向に関して前記ミラー配置(200)の上流及び下流にそれぞれの反射面(300a,300b,350a,350b,360a,360b,370a,370b)を有する偏向デバイス(300,360,370)と、 を含み、 前記少なくとも2つの偏光影響構成要素(401,402,403)は、前記光伝播方向に対して垂直な結晶軸を有する直線複屈折結晶材料によって生成される ことを特徴とする光学系。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G02B 19/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 19/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 照明システム及びリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-056066   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ., カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-035613   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-263405   出願人：株式会社ニコン
• 空間光変調ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-290234   出願人：株式会社ニコン