電子ビーム蒸着用電子銃装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-132313
公開番号（公開出願番号）：特開2015-007269
出願日： 2013年06月25日
公開日（公表日）： 2015年01月15日
要約：

【課題】ポールピース対のクリーニングが不要な電子ビーム蒸着用電子銃装置を提供する。【解決手段】電子ビーム2の形状を補正するための補正偏向磁場22を発生する補正装置15をるつぼ11を挟んで電子銃14の反対側に設ける。補正装置15を構成するポールピース対がるつぼ11上方にポールピース対18が存在しないように、ヨーク板端部8c(8d)とポールピース端部18c(18d)がるつぼ11の幅よりも広い一定の間隔となるように電子銃14と補正装置15が配置される。ヨーク部8で形成した偏向磁場12aとポールピース対18で形成した補正偏向磁場22の合成磁場23がるつぼ11上方に形成される。合成磁場23の強度は、電子ビームが描く軌道の全域にわたり一様となる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

電子ビーム発生手段から発生した電子ビームを偏向磁場発生手段が発生する偏向磁場により偏向してるつぼ内に収容された蒸着材料に入射させると共に、走査コイルにより電子ビームを蒸着材料上で走査する電子ビーム蒸着用電子銃装置において、電子銃本体内に前記電子ビーム発生手段と前記偏向磁場発生手段と走査コイルとを収容すると共に、前記偏向磁場と同一方向の補正偏向磁場を発生する手段を前記るつぼを挟んで前記電子銃本体と反対側に前記電子銃本体とは空間をおいて独立して設け、前記るつぼ上方に前記偏向磁場と前記補正偏向磁場を重畳させた合成偏向磁場を形成することを特徴とする電子ビーム蒸着用電子銃装置。

IPC (3件)：

C23C 14/30 , H01J 37/06 , H01J 37/065

FI (3件)：

C23C14/30 B , H01J37/06 B , H01J37/065

Fターム (6件)：

4K029DB14 , 4K029DB21 , 4K029DB22 , 4K029DB23 , 5C030BB15 , 5C030BC06

引用特許：

審査官引用 (4件)

蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-262585 出願人：三菱重工業株式会社
電子ビーム蒸着用電子銃装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-008401 出願人：日本電子株式会社
真空蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-276546 出願人：日本電子株式会社

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