超薄多孔質ナノスケール膜、その製造方法および使用

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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：清水初志 , 刑部俊 , 新見浩一 , 小林智彦 , 渡邉伸一 , 井上隆一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-034499
公開番号（公開出願番号）：特開2013-150978
特許番号：特許第5712235号
出願日： 2013年02月25日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】シリコンナノ結晶を含む多孔質ナノスケール膜であって、前記膜が、対側で露出し、100nm未満の平均厚を有し、対側の間に延びる複数の孔を有し、かつ対側の両方が、1nm未満の表面粗さを有する、前記ナノスケール膜。

IPC (10件)：

B01D 71/02 ( 200 6.01) , B01D 61/28 ( 200 6.01) , B01J 19/00 ( 200 6.01) , B01D 69/10 ( 200 6.01) , B01D 69/12 ( 200 6.01) , B01D 61/58 ( 200 6.01) , C12M 3/06 ( 200 6.01) , H01M 8/02 ( 200 6.01) , C23C 14/14 ( 200 6.01) , C07K 1/34 ( 200 6.01)

FI (11件)：

B01D 71/02 , B01D 61/28 , B01J 19/00 321 , B01D 69/10 , B01D 69/12 , B01D 61/58 , C12M 3/06 , H01M 8/02 M , H01M 8/02 E , C23C 14/14 A , C07K 1/34

引用特許：

審査官引用 (9件)

ナノメートルスケールの細孔のある膜を形成するための装置及び方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-538280 出願人：ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティー・オブ・カリフォルニア
フィルタエレメント及び当該フィルタエレメントを製造するための方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-518100 出願人：エンエフテー・ナノフィルターテヒニク・ゲゼルスシャフト・ミット・ペシュレンクテル・ハフツング
特開昭63-076484

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